据外媒报道，三星宣布，其新的EUV（远紫外线）半导体生产线已开始大规模生产，该生产线将为客户生产7纳米或更小的芯片。该新V1生产线位于该公司在韩国华城的工厂，是第一条专门用于EUV光刻技术的生产线。三星表示，公司将使用7纳米及以下工艺节点生产芯片，还将采用7纳米和6纳米工艺生产移动芯片，并计划最终生产小至3纳米的芯片。